Data: 15 de dezembro
Hora: 11h
Local: Sala 02.1 (piso -2, Centro de Congressos do Pavilhão de Engenharia Civil), Campus Alameda
«Gerrit Kroesen será o orador da IST Distinguished Lecture “Plasmas in the semiconductor industry: modern trends, opportunities and diversity”, a ter lugar no dia 15 de dezembro de 2023, co-organizada pelo grupo N-PRiME do Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, e pela Área Científica de Plasmas, Lasers e Fusão Nuclear do Departamento de Física do Técnico.
Resumo:
The semiconductor industry is moving towards ever increasing densities and ever decreasing feature sizes. This was kicked off 40 years ago, by two international initiatives: Sematech in the USA and JESSI in the European Union. Those initiatives have lasted for around 10 years. After that, the technology was mature, and industry hardly needed the input of academia for solving their technical challenges in the plasma domain. In recent years, since the moment that feature sizes came below 10 nm, a revival of the field has been taking place. For example: vertical etching angle specifications ask for side wall angles between 89.6 and 90 degrees, anisotropy has been approaching and now exceeds 100, etc. This has evoked a new need of industry for input from plasma physics, sheath physics, fluid dynamics and surface physics and chemistry in these size regimes (Knudsen flow, single atom reactions, etc). Recently, the USA launched the CHIPS act, a package of 45 G$ for semiconductor processing technology. Europe has a similar CHIPS-package. In the presentation the needs of modern-day semiconductor processing will be highlighted, and we will also try to show how we, as people in academia, can cater to that need while at the meantime performing cutting edge fundamental science.
One of the needs of the industry, but also of academia, is diversity. We need a well-trained workforce with a diverse composition. TU/e has embarked on a course of increasing the diversity in the academic population. With that strategy, for instance, the fraction of female staff in tenured academia increased from 2 % to 35 % in 6 years in the physics department. We will describe the vital steps that have contributed to this spectacular shift.
Breve biografia do orador:
Gerrit Kroesen estudou Física Aplicada na Universidade de Tecnologia de Eindhoven de 1977 a 1983.
Concluiu o doutoramento em física dos plasmas em 1988 e foi contratado como Professor Assistente do Grupo de Processos Elementares em Descargas em Gases (EPG) em 1985. Passou um período de licença sabática na IBM em Nova Iorque (EUA) em 1990, e outro na Universidade de Kyoto (Japão) em 1997.
Kroesen ainda trabalha no grupo EPG, desde 1996 como Professor Associado e desde 2000 como Professor Catedrático, com ênfase em física experimental de plasmas. Tornou-se Reitor do Departamento de Física Aplicada em 2012.
Gerrit Kroesen tem-se esforçado continuamente em alargar as fronteiras da física dos plasmas, combinando experiências, diagnósticos, teoria e modelização. A sua investigação centra-se nos processos elementares em plasmas, mas também aborda fenómenos induzidos em superfícies que estão em contato com plasmas.
Ao longo dos anos, foram várias as áreas de aplicação que despertaram o seu interesse, como por exemplo a gravura e deposição assistidas por plasma, as aplicações ambientais, écrans a plasma, plasmas com poeiras, plasmas produzidos e produtores de EUV, e aplicações médicas. Foi co-autor de mais de 200 artigos e 10 patentes, e orientou mais de 150 teses de doutoramento e mestrado.
Gerrit Kroesen recebeu o Prêmio Von Engel e Franklin em 2015 pelo seu “trabalho pioneiro na deposição e gravura assistidas por plasma, onde melhorou a compreensão da dinâmica do plasma e da bainha, e da química do plasma e da bainha” e pelas suas “principais contribuições para a física dos plasmas com poeiras, iluminação e fontes EUV, e trabalho pioneiro em medicina assistida por plasma”.»
