Uma equipa de investigadores do Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear (IPFN), Instituto Superior Técnico, desenvolveu um processo para fabricar grafeno autónomo com tecnologia de plasma, com custo de produção muito mais baixo que outras soluções existentes no mercado. A invenção recebeu uma patente internacional concedida pelo US Patent Office: “Process, reactor and system for fabrication of free-standing two-dimensional nanostructures using plasma technology” (ref. US 11254575B2).

O projeto PEGASUS (Plasma Enabled and Graphene Allowed Synthesis of Unique nanoStructures) que deu origem a esta invenção terminou assim com a concessão desta primeira patente internacional, tendo obtido outras três patentes nacionais e construído a máquina que implementa o processo patenteado.

De acordo com Elena Tatarova, investigadora principal do projeto, “esta invenção destina-se a utilizadores e consumidores de grafeno que desenvolvem novos produtos e dispositivos, para aplicações tão variadas como dispositivos de armazenamento e conversão de energia – por exemplo, elétrodos para supercondensadores, ou linhas AC de filtragem – mas também materiais para purificação e armazenamento de fluxos de hidrogénio, materiais compósitos ou tintas de jato.”
Os restantes autores da invenção são os investigadores Júlio Henriques, Luís Lemos Alves e Bruno Gonçalves, do IPFN.

Veja o vídeo ilustrativo da máquina que produz o grafeno autónomo com tecnologia de plasma, desenvolvida no IPFN/Instituto Superior Técnico.